WDX-200型多道X射線熒光光譜儀可配置10個(gè)固定分光道，同時(shí)分析10種元素。根據(jù)用戶的應(yīng)用要求可配置為從Na到U 任意十種元素。
儀器技術(shù)參數(shù)1 高壓電源：200W（50kv/4mA）。2 X射線管：Varian公司生產(chǎn)的400W薄鈹窗端窗X射線管，Rh靶。
3 管壓管流12小時(shí)穩(wěn)定度：優(yōu)于0.05%。
4 分析元素種類：從Na到U的任意十種元素。
5 探測(cè)器：流氣正比探測(cè)器+封閉正比探測(cè)器，10路1024道獨(dú)立脈沖高度分析器。
6 真空系統(tǒng)：獨(dú)立泵站結(jié)構(gòu)，易于維護(hù)。
7 測(cè)量室真空度：低于5Pa。
8 流氣系統(tǒng)：高精度流氣密度穩(wěn)定裝置，壓力穩(wěn)定度達(dá)到±0.003KPa。
9 前主放：高速前主放電路，大大提高儀器的探測(cè)效率，提高儀器的測(cè)量精度。
10 MCA多道：采用數(shù)字MCA多道幅度采集器，大大提高檢測(cè)效率。
11 交流220V供電設(shè)備：1KVA交流凈化穩(wěn)壓電流。
12 分析精度：σn-1（24小時(shí)，百分比含量）≤0.05%。
13 單個(gè)樣品測(cè)量時(shí)間：（含換樣抽真空時(shí)間）≤3～5分鐘。
14 恒溫室溫度控制精度：設(shè)定值±0.1℃。 測(cè)試產(chǎn)品：1 硅鈣合金，硅鈣鋇鋁合金；
2 復(fù)合合金；
3 工業(yè)硅，化學(xué)硅；
4 二氧化硅，硅石；
5 二氧化鈣，碳酸鈣；
6 煤灰；
7 中碳錳鐵合金；
安裝要求1.實(shí)驗(yàn)室應(yīng)盡量遠(yuǎn)離強(qiáng)振動(dòng)源和噪聲源，盡量遠(yuǎn)離強(qiáng)電磁場(chǎng)干擾源，盡量遠(yuǎn)離塵埃較多的地方。2.般少應(yīng)有兩間實(shí)驗(yàn)室：儀器室和制樣室。 儀器的培訓(xùn)：儀器培訓(xùn)包括技術(shù)培訓(xùn)與現(xiàn)場(chǎng)操作培訓(xùn)，主要內(nèi)容為檢測(cè)方法及原理，常見故障處理、日常運(yùn)維和操作規(guī)程，詳細(xì)可見下表；
| 培訓(xùn)內(nèi)容 | 知識(shí)點(diǎn) | 培訓(xùn)時(shí)間 |
| 理論知識(shí) | 分析技術(shù)的基本原理分析儀的結(jié)構(gòu) | 1-3小時(shí) |
| 產(chǎn)品介紹 | 儀器的構(gòu)成及簡(jiǎn)介儀器演示使用中需要注意的事項(xiàng) | 理論知識(shí)講解中并完成 |
| 保養(yǎng)維護(hù) | 日常保養(yǎng)常見故障維護(hù)診斷 | 1-2小時(shí) |
| 樣品制備及設(shè)備操作 | 開關(guān)機(jī)儀器的使用流程及注意事項(xiàng)樣品的制備儀器與計(jì)算機(jī)和打印機(jī)連接的使用流程及注意事項(xiàng)分析報(bào)告的導(dǎo)入導(dǎo)出流程儀器的數(shù)據(jù)庫(kù)管理、備份及恢復(fù)的注意事項(xiàng)交流及答疑 | 直到學(xué)會(huì)為止不少于2個(gè)工作日 |
| 設(shè)備操作 | 設(shè)備實(shí)機(jī)檢測(cè) | 直到學(xué)會(huì)為止不少于2個(gè)工作日 |
| 實(shí)機(jī)操作及考核 | 實(shí)機(jī)進(jìn)行操作練習(xí)及考核 | 1小時(shí) |
| 其他培訓(xùn) | 可根據(jù)客戶具體要求酌情安排 | ---- |
廠家介紹
是專業(yè)生產(chǎn)X熒光光譜儀，氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀,鍍層測(cè)厚儀，電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,ROHS分析儀，ROHS檢測(cè)儀，X射線鍍層測(cè)厚儀，，ROHS測(cè)量儀，液相色譜儀，ROHS2.0分析儀，XRF，X熒光光譜儀，汽油中硅含量檢測(cè)儀， ROHS檢測(cè)儀器，手持式合金分析儀等，涉及的儀器設(shè)備主要有EDX1800B,Thick800A，Thick8000，ICP2060T,GCMS6800，ICPMS2000等。
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