X射線膜厚檢測(cè)儀是通過次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光,在通過計(jì)算二次熒光的能量來計(jì)算厚度值，電腦操作，非常簡(jiǎn)單，江蘇天瑞股份有限公司是專業(yè)X射線膜厚檢測(cè)儀生產(chǎn)廠家，thick8000是公司新款的X射線膜厚檢測(cè)儀，采用上照方式，移動(dòng)測(cè)試平臺(tái)，使整個(gè)自動(dòng)化程度大幅度提高，滿足快速的要求。

性能優(yōu)勢(shì)

1.精密的三維移動(dòng)平臺(tái) 

2.的樣品觀測(cè)系統(tǒng) 

3.的圖像識(shí)別 

4.輕松實(shí)現(xiàn)深槽樣品的檢測(cè) 

5.四種微孔聚焦準(zhǔn)直器，自動(dòng)切換 

6.雙重保護(hù)措施，實(shí)現(xiàn)無縫防撞 

7.采用大面積高分辨率探測(cè)器，降低檢出限，提高測(cè)試精度

自動(dòng)智能控制方式，鍵式操作!

開機(jī)自動(dòng)自檢、復(fù)位； 

開蓋自動(dòng)退出樣品臺(tái)，升起Z軸測(cè)試平臺(tái)，方便放樣； 

關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺(tái)，下降Z軸測(cè)試平臺(tái)并自動(dòng)完成對(duì)焦； 

直接點(diǎn)擊景或局部景圖像選取測(cè)試點(diǎn)； 

點(diǎn)擊軟件界面測(cè)試按鈕，自動(dòng)完成測(cè)試并顯示結(jié)果。

技術(shù)指標(biāo)

分析元素范圍：硫（S）～鈾（U） 

同時(shí)檢測(cè)元素：多24個(gè)元素，多達(dá)5層鍍層

分析含量：般為2ppm到99.9% 

鍍層厚度：般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）

SDD探測(cè)器：分辨率低至135eV

的微孔準(zhǔn)直技術(shù)：小孔徑達(dá)0.1mm,小光斑達(dá)0.1mm

樣品觀察：配備景和局部?jī)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭 

準(zhǔn)直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合 

儀器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm

樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm

樣品臺(tái)尺寸：393（W）x 258 （D）mm

X/Y/Z平臺(tái)移動(dòng)速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

X/Y/Z平臺(tái)重復(fù)定位精度：小于0.1um

操作環(huán)境濕度：≤90%

操作環(huán)境溫度：15℃～30℃

部分產(chǎn)品

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應(yīng)用領(lǐng)域

X射線膜厚檢測(cè)儀廣泛應(yīng)用于小螺絲、螺帽、螺栓、電子連接器、汽車配件、端子、PCB線路板、電子元器件等產(chǎn)品的金屬鍍層快速測(cè)量。